반도체 장비기업 저스템(임영진 대표·사진)의 자회사 ‘플람’이 블랭크마스크 제조업체 ‘에스앤에스텍’과 블랭크마스크 표면처리 장비의 공동 개발에 성공했다고 7일 밝혔다.

블랭크마스크란 반도체 집적회로 패턴이 노광(물질을 빛에 노출시키는 공정)되기 전 마스크이다. 석영유리기판 위에 금속막과 레지스트(감광액)을 덮어 만드는 포토마스크의 핵심 재료다. 블랭크마스크는 제조 과정에서 금속막 위에 레지스트 막을 올리기 전 밀착력을 강화해 불순물을 제거해야 하는데 이런 문제점을 해결하기 위해 최근 플라즈마 표면처리 장비의 수요가 시장에서 크게 증가하고 있다.

플람은 에스앤에스텍과 시장의 수요에 적극적으로 대응하기 위해 금속막 상단에 플라즈마 처리를 수행하는 포토레지스트(PR) 도포 표면처리 장비와 관련 세정 장비를 공동 개발했다. 현재 에스앤에스텍 대구본사에서 최종 테스트 중으로, 연내 해당장비의 발주가 진행될 예정이다. 김지헌 기자