[헤럴드경제] 5일 오전 경기도 이천의 SK하이닉스 공장의 D램 반도체 공정라인에서 이산화규소 가스가 누출됐다. 이 사고로 작업자 2명이 병원치료를 받고 있다.

이천소방서에 따르면 사고는 반도체 공정에 필요한 가스 공급배관 이음새에 생긴 틈으로 가스가 누출되면서 발생했다. 경찰은 “부상자 2명은 두통과 구토 증세가 있지만 심각한 상황은 아니며 작업장에 함께 있던 나머지 39명은 특별한 증세는 없지만 검진을 받고 있다”고 설명했다. 또 “이산화규소는 불산, 실란가스 등 다른 반도체공정에 들어가는 물질과 다르게 치명적으로 유해성은 없는 것으로 알려져 있다”고 말했다.

한편 하이닉스 공장 측은 사고 직후 부상자를 병원에 옮겨 가스 공급배관 이음새를 교체했다.

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