김윤욱(왼쪽부터) SK하이닉스 지속경영담당 부사장, 황선환 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU 교수, 차선용 미래기술연구원 부사장. [SK하이닉스 제공]
김윤욱(왼쪽부터) SK하이닉스 지속경영담당 부사장, 황선환 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU 교수, 차선용 미래기술연구원 부사장. [SK하이닉스 제공]

SK하이닉스가 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 개최했다고 8일 밝혔다.

올해로 5회째를 맞은 혁신특허포상 시상식은 담당 임직원들이 수상자들의 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가는 방식으로 진행됐다. 이번 시상식의 최고상(금상)은 총 2건이다. D램 내부의 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 D램 개발 신범주 TL과 D램 내부의 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 황선환 SK하이닉스 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU(사내대학) 교수가 수상했다. 김지헌 기자


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