신화인터텍은 패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법 등 3건의 특허를 취득했다고 8일 공시했다.

특허의 주요 내용은 “포토레지스트(PR) 패턴을 사용해 투명 전도성 패턴 형성, 측면이 경사진 포토레지스트(PR) 패턴을 사용해 투명 전도성 패턴 형성, 패터닝된 마스크몰드를 사용해 주입 혹은 침진방식으로 패턴몰드 내부로 투명 도전체를 주입하는 것”이라고 설명했다.

회사측은 “이번 특허는 신성장산업부문인 터치스크린이나 플렉서블 디스플레이 등에 활용되는 기술이며 본 기술경쟁력을 활용해 시장경쟁력우위를 확보할 계획”이라고 밝혔다. 　


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