에스앤에스텍은 블랭크 마스크 및 블랭크 마스크의 제조방법에 관한 특허권을 취득했다고 8일 공시했다.

회사측은 “이번 특허는 투명기판 상에 식각저지막을 적용해 투명기판의 손상없이 위상반전막 식각이 가능해져 정확한 위상반전을 조절할 수 있으며, 가장자리 부분에서 식각저지막이 언더컷 형상을 가져 위상반전막 패턴 측벽에서의 투과광 강도 감소 없이 위상반전을 극대화할 수 있는 하프톤형 위상반전마스크를 제공한다”고 설명했다.


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