테스(095610)는 플라즈마 처리장치에 관한 중국 특허권을 취득했다고 24일 공시했다.
회사측은 “이번 특허는 상부 전극의 방해 없이 기판 위치를 정확히 알 수 있기 때문에 기판의 정렬 오차를 보다 줄일 수 있고 상부 전극과 하부 전극의 간격을 보다 정밀하게 제어할 수 있으므로, 이를 통해 공정 효율을 극대화할 수 있으며 기판의 배면 전체에 존재하는 파티클 및 퇴적물도 효과적으로 제거할 수 있다”고 설명했다.
테스는 24일 14시 19분 현재 200원(-2.68%) 떨어진 7250원에 거래되고 있다.
test10043@heraldcorp.com
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