中, R&D도 G2

중국이 미국 다음으로 특허 등 연구ㆍ개발(R&D) 지출을 많이 하는 국가로 부상했다.

유엔 산하 세계지식재산권기구(WIPO)는 14일(현지시간) 세계 기업들이 지난 40년 간 지출한 특허 사용료가 연간 1800억달러에 달할 정도로 급증한 가운데, 중국이 일본을 제치고 산업분야 연구개발비 지출 2위국이 됐다고 밝혔다.

중국의 R&D 분야 투자는 지난 1993년에는 전 세계 총액의 2.2%에 불과했으나 2009년 12.8%로 급증했다. 미국은 아직도 세계 연구·개발 순위에서 수위를 달리고 있지만 점유율은 3.4% 포인트 하락해 33.4%로 나타났다. 이는 중국에 비해 2.5배 정도 높은 것이다. WIPO는 “기술혁신의 지정학이 중국으로 이동하고 있다”고 설명했다.

한희라 기자/hanira@heraldm.com

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