<생생코스닥>테스，실리콘 산화막의 건식 식각 방법 특허 취득

테스(095610)는 ‘실리콘 산화막의 건식 식각 방법’에 대한 특허를 취득했다고 8일 공시했다.

이 특허에 의하면 기판 위에 형성된 실리콘 산화막을 매우 빠른 식각 속도로 식각이 가능해지며 공정 시간이 단축돼 식각 비용을 절감할 수 있다고 회사측은 설명했다.

또 식각 장치의 작업처리량이 향상되고 높은 작업처리량으로 인해 기존의 습식 식각을 대체할 수 있어 제품경쟁력을 높일 수 있다고 덧붙였다.

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