테스(095610)는 반도체 제조장치 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법에 관한 특허권을 취득했다고 5일 공시했다.

회사측은 “이번 특허는 저온공정과 고온공정을 하나의 챔버 내에서 진행할 수 있어 공정효율이 증대된다는 장점이 있고 저온공정과 고온공정을 함께 진행하면서 식각부산물이 문제될 수 있는 식각공정에서도 식각부산물이 파우더 형태로 챔버에 응축되는 것을 효과적으로 방지하여 기판의 제조품질을 향상시킬 수 있다”고 설명했다.

테스는 5일 14시 44분 현재 200원(1.00%) 오른 2만250원에 거래되고 있다.


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