테스(095610)는 플라즈마 처리장치에 관한 특허권을 취득했다고 4일 공시했다.

회사측은 “이번 특허는 플라즈마 발생전극이 하부를 향해 가스를 분사하며 챔버 상부를 통하여 잔류가스를 배기시킴으로써 플라즈마 발생전극에 생성되는 플라즈마의 균일성을 향상시킬 수 있다”고 설명했다.


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