테스(095610)는 플라즈마 처리 장치에 관한 특허권을 취득했다고 24일 공시했다.

회사측은 “이번 특허는 기판의 정렬 오차를 줄이고, 전극의 간격을 정밀하게 제어함으로써 공정효율을 극대화 할 수 있으며 또한 기판의 파티클 및 퇴적물도 효과적으로 제거할 수 있다”고 설명했다.


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