- “‘반도체 비전 2030’ 달성 차원” - 국내 R&D 분야에 73조, 최첨단 생산 인프라에 60조 투자 [헤럴드경제=이태형 기자] 삼성전자는 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발 및 생산시설 확충에 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5000명을 채용한다고 24일 밝혔다.

삼성전자는 “2030년까지 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하겠다는 ‘반도체 비전 2030’을 달성하기 위한 차원”이라고 설명했다.

구체적으로는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 연구개발(R&D) 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자한다. 또 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(Fabless, 반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(Design House, 설계 서비스 기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계의 경쟁력을 강화할 방침이다.


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